2016年 6月 10日 マスクレス方式のレジストパターン形成ができます

リソレジストパターンを形成するにあたり、マスクを作製せずCADデータのみで形成する
ことができます。電子ビームを用いた直接描画方式や空間光変調器を用いた露光方式に
より数十nmの微細パタンから数十cmの大面積までご提供いたします。
またCADデータの設計から承ることも可能でございます。
ご興味がありましたらぜひご相談ください。