主要設備は以下の通りです。
こちら以外にも、アクセス可能な装置がございます。 どうぞお気軽に、お問い合わせください。
200mm ウェハ用主要装備
- 180nm Baseline
- Aluminium BEOL
- KrF Stepper
- i-Line Stepper
- SiGe Epi
- In-situ Doped Poly Si
- High Aspect Ratio Si Hole
- Deep Si Etch
200mm Toolset
*詳細情報ご請求、ご質問、お見積もり等は、こちらをクリックされ、「お問合わせ」 よりお願いします。
露光装置
| Equipment |
| KrF Stepper |
| i-Line Stepper |
Topへ戻る
エッチング
| Equipment |
| Asher |
| Al Etcher |
| Metal Etcher |
| Poly Etcher SiN Etcher SiO Etcher |
Topへ戻る
CVD
| Equipment |
| Poly-Si |
| SiN |
| TEOS |
| BPSG |
| SiGe |
| P-SiO |
| P-SiN |
Topへ戻る
Anneal
| Equipment |
| Horizontal Furnace |
| RTA, No Treatment |
Topへ戻る
メタル
| Equipment |
| Sputter TiN, W, Al, Co, Ti, TaN, Cu |
Topへ戻る
洗浄
| Equipment |
| Pre-Cleaning |
| HF |
| Organic |
Topへ戻る