News & Topicsお知らせ

  • コンサルティング業務(人材紹介)の更新をしました。 2018年 2月 5日 コンサルティング業務(人材紹介)の更新をしました。 こちらをご覧ください。 Read More
  • 講演のお知らせ 2018年2月15日 2018年 2月 2日 講演のお知らせ 2018年2月15日 「新世代M2Mコンソーシアム」 http://ngm2m.jp/m2m/member/ にて、代表取締役の池田修二が講演をさせていただきます。 題名: トリリオンセンサー時代に向けて     -半導体とMEMS・センサーの融合-        未来を見るデバイス Read More
  • IEEE/EDS主催 国際学会 第2回 EDTM開催 3/13~3/16, 2018 に出展します。 2018年 1月 10日 IEEE/EDS主催 国際学会 第2回 EDTM開催 3/13~3/16, 2018 に出展します。 会議名称: 2nd Electron Devices Technology and Manufacturing(EDTM)Conference 2018 開催期間: 2018 年 3 月 13 日(火)~ 16日(金) 展示会:14日~16日 開催場所: アリストンホテル神戸、神戸商工会議所(予定) 出展内容:半導体技術開発支援、テストウェハー販売、分析・評... Read More
  • IEEE/EDS主催 国際学会 第2回 EDTM開催  3/13~3/16, 2018 2017年 11月 13日 IEEE/EDS主催 国際学会 第2回 EDTM開催 3/13~3/16, 2018 第2回目となる国際学会 EDTM (Electron Devices Technology and Manufacturing Conference) は、神戸商工会議所会館/アリストンホテル神戸を会場に2018年3月13日(火)-16日(金)の日程で開催されます。 詳しくは、以下webサイトをご覧ください。 EDTM 2018 Read More
  • 第78回 応用物理学会 秋季学術講演会 2017/9/5~8 2017年 8月 22日 第78回 応用物理学会 秋季学術講演会 2017/9/5~8 第78回 応用物理学会 秋季学術講演会が、2017年9月5日から8日に 福岡国際会議場・国際センター・福岡サンパレスにて開催します。 https://meeting.jsap.or.jp/ 応用物理学の扱う領域は広く多岐に渡り、 異分野での融合も必要な分野でもあります。 弊社では、半導体製造技術を駆使し、お客様の望まれる 微細構造を実現します。半導体とは異分... Read More
  • イノベーション・ジャパン2017-大学見本市開催 2017年 8月 14日 イノベーション・ジャパン2017-大学見本市開催 大学の研究成果の展示会「イノベーション・ジャパン2017-大学見本市」が 2017/8/31-9/1 東京ビックサイトにて開催されます。 http://www.jst.go.jp/tt/fair/ 同時開催として、JSTフェアが開催されます。 http://www.jst.go.jp/tt/jstfair2017/index.html ティーイーアイソリュー... Read More
  • テストウェハー販売ご案内 2016年 6月 14日 テストウェハー販売ご案内 材料や装置評価に用いるブランケット膜、及びパターニングされたウェハーをご提供します。 膜種:熱酸化膜、LP-CVD、Plasma-CVD、スパッタ膜、レジスト塗布 等 パターン:L/Sパターン、Holeパターン、Damasceneパターン 等 弊社所有のマスクパターンをご利用いただけるほか、御社ご要望の新規パターン・構造の開発も承ります。各種ウェハーサイズの... Read More
  • 新規パターン加工案件の画像を追加しました。 2016年 6月 14日 新規パターン加工案件の画像を追加しました。 新規パターン加工案件の画像を追加しました。 Si ピラーパターン Read More
  • IEEE 第16回ナノテクノロジー会議企業展示に出展します。(2016/8/22~8/25) 2016年 6月 13日 IEEE 第16回ナノテクノロジー会議企業展示に出展します。(2016/8/22~8/25) IEEE第16回ナノテクノロジー会議 会期:2016/8/22(月)~8/25(木) 会場:仙台国際センター 出展内容:半導体技術開発支援、テストウェハー販売、分析・評価サービス など http://ieeenano2016.org/index.html Read More
  • マスクレス方式のレジストパターン形成ができます 2016年 6月 10日 マスクレス方式のレジストパターン形成ができます リソレジストパターンを形成するにあたり、マスクを作製せずCADデータのみで形成する ことができます。電子ビームを用いた直接描画方式や空間光変調器を用いた露光方式に より数十nmの微細パタンから数十cmの大面積までご提供いたします。 またCADデータの設計から承ることも可能でございます。 ご興味がありましたらぜひご相談ください。 Read More